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而arF光刻胶又分正胶和反胶,这次曝光用的是正胶,被曝光区域的光刻胶会生化学反应,没曝光区域则不受到影响。
一块区域被曝光后,透镜组立马移动,侧开照射光源,待移动平台调整后继续移回正位,对下一个区域进行光刻曝光。
12寸半导体硅片,大概能产出232块1.6x1.6的成品裸片,也就是说需要曝光232次。目前来说,曝光一次的度大概在1秒,这就需要232秒,也就是差不多4分钟才能把一张半导体硅片全部曝光完成。
虽然这个度相比较于光刻机慢了差不多一倍,可光刻工厂毕竟是国产自研,而且是第一代产物,后续透镜组和移动平台还能继续优化,追赶上光刻机的光刻度不是不可能的。
在等待了四分钟后,林天看向陈星等人解释道:“考虑到两块光掩膜版的能量消耗,我们先不急着拿去显影,让半导体硅片再次加热,加剧光刻胶的化学反应。”
陈星、雷兵、夏扬微微颔,都在等待着结果。
现在这里陈星算半个门外汉,雷兵、夏扬则是都是门外汉,只能听林天安排。
他别说拿去烤了,哪怕是烧,他们也会觉得很合理。
随着林天输入指令,本该送去显影的半导体硅片被传送去了烘烤区域,进行二次加热,加剧arF光刻胶内部的化学反应。
当这步完成以后,半导体硅片再次被运输,它来到了显影区域。
先用去离子水润湿硅片,紧接着把硅片放在显影平台,上方的机器设备喷出显影液,均匀地撒在半导体硅片表面,进一步溶解被曝光的部分区域。
随着这个步骤完成,半导体硅片表面已经清晰可见电路图案,只差最后的冲洗,将未曝光部分黏着的光刻胶全部清洗掉。
“我好像看见图案了。”
雷兵瞪大双眼,不敢错过任何一丝的细节。
“我也看见了。”夏扬附和道。
刚才半导体硅片清洗拿出时,可以清晰看见硅片表面密密麻麻的电路图案。
“有电路图案是好事,但还需要经过电路测试才能知道芯片能不能正常运行。”
陈星讲解道。
经过了开天芯片、轻舟芯片、soc上帝芯片多次耳濡目染,他已经算半个行内人了。
曝光、蚀刻、显影、清洗他都略懂一二,当然了,只是略懂,还停留在理论知识层面。
不过纵使是这样,雷兵还是忍不住竖起拇指称赞道:“想不到陈总不仅在商业领域有所建树,原来在芯片领域也有自己独到的见解。”
“确实想不到。”
夏扬也附和一声。
本以为陈星什么也不懂,没想到人家出口成章,这让他们都感到了一丝意外。
听着两人称赞,陈星也几位谦虚道:“不算是见解,只是耳濡目染多了记下的知识点。”
“能记下也是个本事。”
雷兵笑道。
夏扬也点了点头,附和道:“没错,记忆力不好的想记也记不住,陈总能记住这些流程,足以见得龙兴科技深耕芯片的赤子之心。”
在两人一唱一和拍陈星马屁的同时,全自动化的生产线已经把显影后的半导体硅片送去切片,进行最终电路测试。
林天看着“检测中”的提示,看向陈星说道:“如果可以通过,二期光刻工厂就可以开工了,不过能源还是个问题…”
他目光看向夏扬。
后者立马会意,连忙说道:“陈总、林席你们放心好了,只要证实光刻工厂可行,天一亮我就回去召开市级会议,主题就是建设你们的能源输送通道。”
“没错。”
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